氟化铒ErF3

用作光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。

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产品介绍
  • 产品概述
  • 技术参数
  • 产品应用
  • 合成方法:

    氢氟酸沉淀-真空脱水法。将过量氢氟酸加到氯化铒或硝酸铒中,将其水溶液在水浴上蒸发、浓缩、冷却、结晶,即可制得三氟化铒的水合物。然后在真空中加热脱去结晶水。
    氢氟酸浓度一般为40%~48%,它的消耗量是理论量的110%~120%。从水溶液中析出的氟化铒沉淀,必须用水充分洗涤,水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100~150℃下干燥,以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解,生成氟氧化物ErOF,脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于0.133Pa,脱水温度不低于300℃。
    另一种脱水方法就是将水合氟化铒放在干燥氟化氢气流中脱水,最终脱水温度为600~650℃。由于氢氟酸沉淀是在水溶液中进行的,故一般使用塑料反应容器,且脱水设备宜用耐高温腐蚀的材料,一般采用镍基合金材料制作。
  • 材料名称 氟化铒
    分子式 ErF3
    CAS号 13760-83-3
    摩尔质量 224.254
    密度 7.814 g/cm³
    熔点 1350 ℃
    沸点 2200 ℃

  • 用作光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器、催化助剂等。
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