铟锡氧化物(ITO)和In3O5SnO2有相对良好的导电性能和可见光穿性.这样的薄膜在数据显示屏和抗热防霜装置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作择光窗和可控穿透窗
氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜. SIO2薄膜如果压力过大薄膜将有气孔并且易碎相反压力过低薄膜将有
由于它的高折射率和相对坚固性人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TIO2 TI2O3. TIO TI 这些原材料氧钛原子的模拟比率分别为
硫化锌(ZnS)薄膜淀积于室温基底上时，其膜层牢固性往往很差;提高基底温度或实施离子轰击可改善膜层牢固度。在可见区，其常与低折射率的氟化物相组合，在红外区则常与高折射率的
生产工艺工业上生产的磷化镓材料可分为单晶材料和外延材料。工业生产的衬底单晶均为掺入硫、硅杂质的N型半导体。磷化镓单晶早期通过液相法在常压下制备；后采用液体覆盖直拉法
碳化硅，是一种无机物，化学式为SiC，是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生产绿色碳化硅时需要加食盐）等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物，莫
使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发在200℃的基板上蒸着二氧化铈得到一个约为2.2的折射率在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化在300℃基板500nm区域折射
薄膜特性: 高熔点、高热膨胀系数、高化学稳定性、低热导率，热膨胀系数与金属基体接近，与金属基体具有良好的结合力
普遍用于中间材料该材料有很好的堆积密度并且在2007000NM区域的透明带该制程是否需要加氧气以试验分析来确定提高基板温度可提高其折射率在镀膜程式不可理更改情况下以调整蒸
紫色粉末，六方晶系结构，晶格常数=0.5155nm。含氧59.5%～60.8%(at)。可溶于 40%（质量）氢氟酸中，可为浓硝酸侵蚀，但不受浓盐酸，浓硫酸侵蚀，也不为浓碱侵蚀，和30%（质量）过氧化氢
TiAl基合金是一种新兴的金属化合物结构材料，-TiA1合金具有许多突出特点，例如：密度低，具有高的比强度和比弹性模量，在高温时仍可以保持足够高的强度和刚度，同时它还具有良好
将铌料或粗五氧化二铌经硝酸和氢氟酸混合液溶解生成氟铌酸用强酸和甲基异丁酮有机相混合液萃取铌再经反萃后用氨水和氟铌酸反应生成氢氧化铌沉淀再经洗涤、烘干及灼烧可得
