1.产品名：氟化镱； 2.化学式：YbF 3 ；
铟锡氧化物(ITO)和In3O5SnO2有相对良好的导电性能和可见光穿性.这样的薄膜在数据显示屏和抗热防霜装置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作择光窗和可控穿透窗
氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜. SIO2薄膜如果压力过大薄膜将有气孔并且易碎相反压力过低薄膜将有
由于它的高折射率和相对坚固性人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TIO2 TI2O3. TIO TI 这些原材料氧钛原子的模拟比率分别为
硫化锌(ZnS)薄膜淀积于室温基底上时，其膜层牢固性往往很差;提高基底温度或实施离子轰击可改善膜层牢固度。在可见区，其常与低折射率的氟化物相组合，在红外区则常与高折射率的
生产工艺工业上生产的磷化镓材料可分为单晶材料和外延材料。工业生产的衬底单晶均为掺入硫、硅杂质的N型半导体。磷化镓单晶早期通过液相法在常压下制备；后采用液体覆盖直拉法
碳化硅，是一种无机物，化学式为SiC，是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生产绿色碳化硅时需要加食盐）等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物，莫
1.产品名：氟化镧； 2.化学式：LaF 3 ；
1.产品名：氟化铈； 2.化学式：CeF 3 ；
1.产品名：氟化镝； 2.化学式：DyF 3 ；
1.产品名：氟化钆； 2.化学式：GdF 3 ；
使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发在200℃的基板上蒸着二氧化铈得到一个约为2.2的折射率在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化在300℃基板500nm区域折射
