ZrO2具有坚硬,结实及不均匀之特性,该薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收,其材料的纯度及为重要,纯度不够薄膜通常缺乏整体致密性,它得益于适当使用IAD来增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均匀性.目前纯度达到99.99%基本上解决了以上的问题.SAINTY等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保护膜,该膜层(指ZRO2)是在室温基板上使用700EV氩离子助镀而得到的。
粉状材料使用钨舟或钼舟.颗粒状,粉状材料排杂气量较多,柱状或块状较少. 真空度小于2*10-5Torr条件下蒸发可得到较稳定的折射率,真空度大于5*10-5Torr时蒸发,薄膜折射率逐渐变小。 蒸镀时加入一定压力的氧气可以改善其材料之不均匀性。