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18915733682
产品介绍
产品概述
技术参数
产品应用
氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜. SIO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,,需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧气和氩气混合充气,但是这是热镀的情况,冷镀时这种性况不存在
材料名称
二氧化硅
分子式
SiO2
CAS号
60676-86-0
分子量
60.084
密度
2.6 g/mL at 25℃(lit.)
沸点
2230℃
熔点
1610℃
用于防反膜冷光膜滤光片绝缘膜眼镜膜紫外膜
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