高纯锗Ge 靶材_东宸先瑞

高纯锗Ge 靶材

高纯锗Ge 靶材 Ge-target 尺寸规格可定制

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产品介绍

锗( Ge) 不吸湿，无毒，导热性好，表面硬度高，强度好。锗除了用于制备薄膜外，还可用来做透射红外的窗口材料，同时也可用于制备极紫外区的滤光片。锗通常用于2至12微米光谱区域的成像系统和仪器，用作低功率连续波激光器以及脉冲TEA、CO2激光器的透镜、窗口和输出耦合器的衬底。

稀有金属,无毒无放射性,主要用于半导体工业,塑料工业,红外光学器件,航天工业,光纤通讯等.透光范围2000NM---14000NM,n=4甚至更大,937（℃）时熔化并且在电子枪中形成一种液体,然后在1400（℃）轻易蒸发.用电子枪蒸发时它的密度比整体堆积密度低,而用离子助镀或者镭射蒸镀可以得到接近于松散密度.在锗基板上与THF4制备几十层的8000---12000NM带通滤光片,如果容室温度太高吸收将有重大变化,在240--280（℃）范围内,在从非晶体到晶体转变的过程中Ge有一个临界点。