高纯 铟In 靶材

高纯 铟In 靶材 99.99%-99.999% 铟In-target 尺寸规格可定制

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产品介绍
  • 产品概述
  • 技术参数
  • 产品应用
  • 溅射靶材工艺流程:
    原料粉末 → 粉末冶炼 → 粉末混合 → 压制成型 → 气氛烧结 → 塑性加工 → 热处理→ 超声探伤 → 水切割 → 机械加工  → 金属化 → 绑定 → 超声测试 → 超声清洗 → 终检 → 包装出库
     
    成分质量控制
    原料成分分析:
    通过ICP、GDMS等设备检测分析,金属杂质含量,确保纯度达标;
    通过碳硫分析仪,氮氧分析仪等设备对非金属杂质含量进行检测。
     
    金相探伤分析:
    通过探伤设备检测产出靶材,确保产品内部无缺陷、缩孔;
    通过金相测试,检测靶材内部晶粒程度,确保晶粒细密。
     
    外观尺寸检测:
    通过千分尺、精密卡尺,测量产品尺寸,确保符合客户图纸要求;
    通过表面清洁度测量仪,测量产品表面光洁度和清洁度。
     
    包装及保存说明
    出库包装:内部真空袋真空包装,外部贴标(可根据需求包装),纸箱泡沫垫快递运输。
    储存方法:储存于干燥环境中,避免潮湿,密封包装,轻拿轻放,防压防撞。
    使用注意:使用前请带上防尘手套操作,观察靶材表面是否清洁,避免直接用手接触操作,及其他异物污染到靶材。

  • 高纯铟锭(In)基本信息
    分子式 In
    纯度 99.99
    CAS号 7440-74-6
    分子量 114.818
    密度 7.3 g/mL
    沸点 2000 ℃
    熔点 156 ℃
    闪点 2072 ℃
    饱和蒸气压 0.013 kPa
    性状 银灰色质软的易熔金属
    溶解性 溶于浓硫酸、浓硝酸,不溶于水。粉体遇明火、高热可燃

  • 适用设备及应用领域
     
    适用设备:应用于PVD技术镀膜材料,各种单靶材系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备
    应用领域:科学实验研究方面应用,纳米加工,器件制造等相关产品,广泛应用于平面显示、半导体、太阳能电池、光学元器件、节能玻璃等领域。

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