铪颗粒Hf

Hf-铪颗粒 99.95-99.99% 2*5mm6*6mm30-50mm

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18915733682

产品介绍
  • 产品概述
  • 技术参数
  • 产品应用
  • 铪(Hf)金属给有较高的中子吸收截面,可用作反应堆的控制材料。金属铪纯度越高,制备的氧化铪薄膜抗激光损伤阈值越高。由金属铪反应蒸发制备的HfO2薄膜,具有如下效应:由于满足了给的悬空键,因此降低了氧化铪薄膜的光学吸收;降低了薄膜的平均折射率;减小了薄膜的光学非均匀性,具有低的散射损失。
  • 材料名称
    分子式 Hf
    产品规格 颗粒、靶
    分子量 178.49
    密度 13.09g/mL
    熔点 2230℃
    蒸发温度 3090℃

  • 主要用于制作原子反应堆的控制棒,也用作消气剂及硬质合金的添加剂。
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