氟化镁（MgF2）是目前在紫外-近红外波段应用最广泛的低折射率材料。在基板加热到250℃以上后薄膜变硬，耐磨，很适合做单层抗反射膜，也适合与其他材料搭配做为低折射率材料来镀制多层膜滤光片。
由于其本身高的内应力，所以单层MgF2薄膜的厚度不能超过2μm，否则会产生薄膜开裂的现象
MgF2作为1/4波厚抗反射膜普遍使用来作玻璃光学薄膜，它难以或者相对难以溶解，而且有大约120NM真实紫外线到大约7000nm的中部红外线区域里透过性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出从至少200NM到6000NM的区域里，2.75MM厚的单晶体 MgF2是透明的,接着波长越长吸收性开始增大,在10000NM透过率降到大约2%,虽然在8000—12000NM区域作为厚膜具有较大的吸收性,但是可以在其顶部合用一薄膜作为保护层. 不使用IAD助镀,其膜的硬度,耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀, MgF2膜层通常被手指擦伤,具有比较高的湿度变化.在真空中大约N=1.32,堆积密度82%,使用300（℃）蒸镀,其堆积密度将达到98%,N=1.39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低,在室温与300（℃）之间,折射率与密度的变化几乎成正比例的. 在玻璃上冷镀 MgF2加以IAD助镀可以得到300（℃）同等的薄膜,但是125—150EV能量蒸镀可是最适合的.在塑料上使用IAD蒸镀几乎强制获得合理的附着力与硬度.经验是 MgF2不能与离子碰撞过于剧烈。
制程特性:折射率稳定,真空度和速率对其变化影响小 预熔不充分或蒸发电流过大易产生飞溅,造成镜片”木”不良.在打开档板后蒸发电流不要随意加减,易飞溅.基片须加热到高的张应力 白色颗粒状,常用于抗反射膜,易吸潮.购买时应考虑其纯度。
