使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发在200℃的基板上蒸着二氧化铈得到一个约为2.2的折射率在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化在300℃基板500nm区域折射
铟锡氧化物(ITO)和In3O5SnO2有相对良好的导电性能和可见光穿性.这样的薄膜在数据显示屏和抗热防霜装置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作择光窗和可控穿透窗
薄膜特性: 高熔点、高热膨胀系数、高化学稳定性、低热导率,热膨胀系数与金属基体接近,与金属基体具有良好的结合力
氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜. SIO2薄膜如果压力过大薄膜将有气孔并且易碎相反压力过低薄膜将有
由于它的高折射率和相对坚固性人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TIO2 TI2O3. TIO TI 这些原材料氧钛原子的模拟比率分别为
普遍用于中间材料该材料有很好的堆积密度并且在2007000NM区域的透明带该制程是否需要加氧气以试验分析来确定提高基板温度可提高其折射率在镀膜程式不可理更改情况下以调整蒸
紫色粉末,六方晶系结构,晶格常数=0.5155nm。含氧59.5%~60.8%(at)。可溶于 40%(质量)氢氟酸中,可为浓硝酸侵蚀,但不受浓盐酸,浓硫酸侵蚀,也不为浓碱侵蚀,和30%(质量)过氧化氢
将铌料或粗五氧化二铌经硝酸和氢氟酸混合液溶解生成氟铌酸用强酸和甲基异丁酮有机相混合液萃取铌再经反萃后用氨水和氟铌酸反应生成氢氧化铌沉淀再经洗涤、烘干及灼烧可得
将铌料或粗五氧化二铌经硝酸和氢氟酸混合液溶解生成氟铌酸用强酸和甲基异丁酮有机相混合液萃取铌再经反萃后用氨水和氟铌酸反应生成氢氧化铌沉淀再经洗涤、烘干及灼烧可得
五氧化二钽镀膜材料是最常用的高折射率镀膜材料之一,能在玻璃和塑料基材上形成稳定的薄膜,能从紫外到中红外的广泛光谱范围内具有低吸收。 通常五氧化二钽在沉积过程中应充氧
五氧化二钽镀膜材料是最常用的高折射率镀膜材料之一,能在玻璃和塑料基材上形成稳定的薄膜,能从紫外到中红外的广泛光谱范围内具有低吸收。 通常五氧化二钽在沉积过程中应充氧
1.如果遵照规格使用和储存则不会分解,未有已知危险反应,避免碱、碱金属 2.受阳光照射发磷光,在阴极线和阳极线上,能发出绿色和紫色等光。为两性氧化物,溶于稀酸、浓氢氧化