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高纯铪颗粒 Hf
Hf-铪颗粒 99.95-99.99% 2*5mm6*6mm30-50mm
Service
18915733682
产品介绍
产品概述
技术参数
产品应用
铪(Hf)金属给有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料。金属铪纯度越高，制备的氧化铪薄膜抗激光损伤阈值越高。由金属铪反应蒸发制备的HfO2薄膜，具有如下效应:由于满足了给的悬空键，因此降低了氧化铪薄膜的光学吸收；降低了薄膜的平均折射率;减小了薄膜的光学非均匀性，具有低的散射损失。
材料名称
铪
分子式
Hf
产品规格
颗粒、靶
分子量
178.49
密度
13.09g/mL
熔点
2230℃
蒸发温度
3090℃
主要用于制作原子反应堆的控制棒，也用作消气剂及硬质合金的添加剂。
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