硅(Si)经常作为高折射率镀膜材料或基底材料。薄膜硬度高，化学稳定性好。氧元素的吸收，导致8~14um透过率相对较低，碳元素特征吸收导致16um附近有强力吸收。
钒（ Vanadium ）是一种银灰色金属，钒的熔点很高，为 难熔金属 ，有 延展性 ，质坚硬，无磁性。具有耐盐酸和硫酸的本领，并且在耐气、耐盐、耐水腐蚀的性能要比大多数 不锈钢 好。
铬(Cr) 是一种升华材料，在真空中蒸发时，表面非常容易氧化。铬的机械性能良好，蒸镀在加热基底上的铬膜与基底结合得非常牢固。利用铬膜的这种特性，常常将极薄的铬膜用来做过
铪(Hf)金属给有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料。金属铪纯度越高，制备的氧化铪薄膜抗激光损伤阈值越高。由金属铪反应蒸发制备的HfO2薄膜，具有如下效应:由于满足了
在很高的温度下仍有很高的强度。常温时在空气中稳定，高温时燃烧生成三氧化钼。跟氯和溴能化合。禁配物为氟、酸类。 溶于热浓硝酸、热浓硫酸、王水，微溶于盐酸，不溶于冷水、
在空气中常温时稳定，200℃开始氧化生成致密氧化物薄膜。 避免氧化物、碱、卤素。铌对酸的耐腐蚀性强。
1.核外电子排布1s 2 2s 2 ，位于第2周期第ⅡA族，原子半径111.3皮米，离子半径35皮米，第一电离能905kJ/mol，电负性1.5。质坚硬，电导性5.2，氧化数+2。灼热的铍跟水蒸气反应生成氧化铍和
钛的强度大，密度小，硬度大，抗腐蚀性很强，液态钛易与其它金属形成合金，可采用电子束加热蒸发、溅射法、离子镀等制备银白色钛膜。可以通过引入氮、氧、碳等元素进行多种颜
1.锑化学性质不很活动。室温下不能被空气中氧气氧化，但能跟氟、氯、溴化合生成三价或五价卤化物。加热时可跟碘、硫化合。高温时燃烧显蓝色并生成Sb4O6。常温时不跟水反应，红热
钨是稀有高熔点金属，可提高钢的高温硬度，钨是一种银白色金属，外形似钢。钨的熔点高，蒸气压很低，蒸发速度也较小。钨的化学性质很稳定，常温时不跟空气和水反应，不加热时
铟单独的矿物极少，绝大多数伴生于锡、铅、锑、锌等矿中。避免与强氧化剂、强酸接触。 溶于浓无机酸，极微溶于氢氧化钠溶液，不溶于水。
