二氧化硅 SiO2 晶体颗粒 99.99%_东宸先瑞

二氧化硅 SiO2 晶体颗粒 99.99%

二氧化硅 SiO2 晶体颗粒（1-2.5/2.5-5）4N 20克

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18915733682

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产品应用

氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜. SIO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,,需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧气和氩气混合充气,但是这是热镀的情况,冷镀时这种性况不存在

材料名称	二氧化硅
分子式	SiO2
CAS号	60676-86-0
分子量	60.084
密度	2.6 g/mL at 25℃(lit.)
沸点	2230℃
熔点	1610℃
外观性状	颗粒
纯度	99.99

用于防反膜冷光膜滤光片绝缘膜眼镜膜紫外膜

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