氟化镁（MgF2）是目前在紫外-近红外波段应用最广泛的低折射率材料。在基板加热到250℃以上后薄膜变硬，耐磨，很适合做单层抗反射膜，也适合与其他材料搭配做为低折射率材料来镀
普遍用于中间材料该材料有很好的堆积密度并且在2007000NM区域的透明带该制程是否需要加氧气以试验分析来确定提高基板温度可提高其折射率在镀膜程式不可理更改情况下以调整蒸
紫色粉末，六方晶系结构，晶格常数=0.5155nm。含氧59.5%～60.8%(at)。可溶于 40%（质量）氢氟酸中，可为浓硝酸侵蚀，但不受浓盐酸，浓硫酸侵蚀，也不为浓碱侵蚀，和30%（质量）过氧化氢
TiAl基合金是一种新兴的金属化合物结构材料，-TiA1合金具有许多突出特点，例如：密度低，具有高的比强度和比弹性模量，在高温时仍可以保持足够高的强度和刚度，同时它还具有良好
将铌料或粗五氧化二铌经硝酸和氢氟酸混合液溶解生成氟铌酸用强酸和甲基异丁酮有机相混合液萃取铌再经反萃后用氨水和氟铌酸反应生成氢氧化铌沉淀再经洗涤、烘干及灼烧可得
将铌料或粗五氧化二铌经硝酸和氢氟酸混合液溶解生成氟铌酸用强酸和甲基异丁酮有机相混合液萃取铌再经反萃后用氨水和氟铌酸反应生成氢氧化铌沉淀再经洗涤、烘干及灼烧可得
五氧化二钽镀膜材料是最常用的高折射率镀膜材料之一，能在玻璃和塑料基材上形成稳定的薄膜，能从紫外到中红外的广泛光谱范围内具有低吸收。 通常五氧化二钽在沉积过程中应充氧
五氧化二钽镀膜材料是最常用的高折射率镀膜材料之一，能在玻璃和塑料基材上形成稳定的薄膜，能从紫外到中红外的广泛光谱范围内具有低吸收。 通常五氧化二钽在沉积过程中应充氧
硒化锌 ( ZnSe )具有0.5~14m的宽透射范围，可用于气相沉积制备红外光学薄膜，在红外光学领域得到广泛应用。主要应用在红外光谱范围内的多层涂层。因为其在红外波长的低吸收率和可见
1.如果遵照规格使用和储存则不会分解，未有已知危险反应，避免碱、碱金属 2.受阳光照射发磷光，在阴极线和阳极线上，能发出绿色和紫色等光。为两性氧化物，溶于稀酸、浓氢氧化
高熔点、高热膨胀系数、高化学稳定性、低热导率，热膨胀系数与金属基体接近，与金属基体具有良好的结合力。
熔点较低可用钼舟或钛舟蒸发但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华. 使用电子枪加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法. 制备塑料镜片时一般第一层是SIO可以增加
